氪气有众多应用场景，在半导体领域主要用作3D NAND Flash Memory（简称 3D NAND ）刻蚀气体。3D NAND 高密度发展正如火如荼地进行着，在技术方面，三星、美光、SK海力士进入新阶段，尤其是进入100层堆叠以上，竞争更加激烈。其中美光和SK海力士率先在2020年底宣布推出176层3D NAND，三星也将在下半年推出基于双堆栈176层V7 NAND的产品。

   铠侠与西部数据在2021年2月份也宣布开发出第六代162层3D NAND技术。据日媒5月12日报道，铠侠(Kioxia)计划投资高达约2兆日圆（约183.7亿美元），加码投资助力提高3D NAND生产。该部门负责内容包括铠侠株式会社(KIOXIA)中国市场电子特种气体供应商开发和品控管理等工作。

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